Разработаны гибридные материалы на основе композиций с добавками наночастиц диоксида кремния для оптоэлектронных покрытий
22.05.2025
Сотрудники лаборатории фотоники и органической электроники Центра биофотоники Институт общей физики им. А.М.
Прохорова РАН разработали метод создания новых прозрачных УФ-отверждаемых материалов на основе эпокси-акрилатных композиций с добавками наночастиц SiO2. Эти добавки позволяют регулировать физические свойства материалов, не изменяя их структуру и способ синтеза.
Разработанные материалы применены в качестве
прозрачного (в диапазоне 400—800 нм) фоторезиста с субмикронным разрешением (~1
мкм) и пониженной температурой дубления. Подобные системы играют ключевую роль
в создании высокоэффективных фотоконверсионных плёнок на основе квантовых точек
и люминофоров, используемых в OLED-дисплеях нового поколения.
Разработан подход к синтезу гибридных материалов на
основе эпокси-акрилатных (ЕА) составов и наночастиц диоксида кремния (SiO2). В
качестве основы синтеза ЕА выбран нетоксичный и наиболее экономичный компонент
отечественных промышленных эпоксидных смол, производимых тоннажным химическим
синтезом.
Полученные материалы обладают высокой прозрачностью
в видимом диапазоне (выше 98 %), узкой полосой УФ-отверждения (350–390 нм).
Модификация ЕА наночастицами диоксида кремния (размером 10–30 нм и с оптическим
поглощением меньше 4% в видимом диапазоне) в качестве функциональной добавки
позволила регулировать динамическую вязкость в диапазоне от нескольких мПа۰с до
10 Па۰с и показатель преломления от 1,43 до 1,55. Такой подход позволяет
получать тонкоплёночные покрытия (на рисунке сверху) с заранее заданными
свойствами (толщиной, оптическим пропусканием) и упрощает внедрение в
существующие отечественные производства микроэлектроники, в которых
используются преимущественно зарубежные материалы.
Вверху схематичное изображение структуры тонких
плёнок эпокси-акрилатов с добавлением диоксида кремния; внизу фотографии
микроструктур плёнок эпокси-акрилатных составов после процессов экспонирования
и проявления
Эпокси-акрилатные составы были исследованы в качестве
прозрачного фоторезиста. Установлено, что EA обладают разрешением ~1 мкм (на
рисунке внизу) и низкой температурой дубления фоторезиста при 100 °С, а также
термостойкостью до 200 °С. Данные характеристики принципиально важны в
производственных процессах современных OLED микродисплеев и устройств
фотовольтаики на основе перовскитных соединений.
«Разработанные эпокси-акрилатные составы
решают проблему отсутствия отечественных прозрачных покрытий для
оптоэлектронных устройств. Гибридные материалы с добавлением SiO2 обладают
потенциалом для применения в качестве герметизирующих слоёв для
влагочувствительных компонентов, а технология их синтеза легко масштабируется
для промышленного внедрения и соответствует экологическим стандартам»,
— отметил руководитель исследования, заведующий Лабораторией фотоники и
органической электроники Центра биофотоники ИОФ РАН доктор
физико-математических наук Денис Чаусов.
Внедрение этих материалов в производство российской
микроэлектроники ускорит переход к самостоятельному производству критически
важных компонентов и усилит конкурентоспособность на рынке.
Работа опубликована в журнале Progress
in Organic Coatings.
Источник: ИОФ РАН.